Chemistry Reference
In-Depth Information
J. W. Strohbach and M. F. Veley, Org. Process Res. Dev., 2006, 10, 493;
(j) N. A. Magnus, W. D. Diseroad, R. Nevill Jr and J. P. Wepsiec, Org.
Process Res. Dev.,2006,10, 556; (k) H. Li, Z. Xia, S. Chen, K. Koya, M. Ono
and L. Sun, Org. Process Res. Dev., 2007, 11, 246; (l) R. N. Richey and
H. Yu, Org. Process Res. Dev., 2009, 13, 315; (m) I. N. Houpis, D. Shilds,
U. Nettekoven, A. Schnyder, E. Bappert, K. Weerts, M. Canters and
W. Vermuelen, Org. Process Res. Dev., 2009, 13,598;(n)S.Yu,A.Haight,
B. Kotecki, L. Wang, K. Lukin and D. R. Hill, J. Org. Chem., 2009,
74, 9539; (o) X. Deng, J. T. Liang, M. Peterson, R. Rynberg, E. Cheung and
N. S. Mani, J. Org. Chem., 2010, 75, 1940; (p) M. A. Berliner, E. M. Cordi,
J. R. Dunetz and K. E. Price, Org. Process Res. Dev., 2010, 14,180;
(q) N. M. Deschamps, V. I. Elitzin, B. Liu, M. B. Mitchell, M. J. Sharp and
E. A. Tabet, J. Org. Chem., 2011, 76, 712; (r) J. Y. L. Chung, D. Steinhuebel,
S. W. Krska, F. W. Hartner, C. Cai, J. Rosen, D. E. Mancheno, T. Pei,
L. DiMichele, R. G. Ball, C.-y. Chen, L. Tan, A. D. Alorati, S. E. Brewer and
J. P. Scott, Org. Process Res. Dev., 2012, 16, 1832; (s) J. B. Sperry, R. M. Farr,
M. Levent, M. Ghosh, S. M. Hoagland, R. J. Varsolona and K. Sutherland,
Org. Process Res. Dev., 2012, 16, 1854; (t) J. T. Reeves, D. R. Fandrick,
Z. Tan, J. J. Song, S. Rodriguez, B. Qu, S. Kim, O. Niemeier, Z. Li,
D. Byrne, S. Campbell, A. Chitroda, P. DeCroos, T. Fachinger, V. Fuchs,
N. C. Gonnella, N. Grinberg, N. Haddad, B. J¨ger, H. Lee, J. C. Lorenz,
S. Ma, B. A. Narayanan, L. J. Nummy, A. Premasiri, F. Roschangar,
M. Sarvestani, S. Shen, E. Spinelli, X. Sun, R. J. Varsolona, N. Yee,
M. Brenner and C. H. Senanayake, J. Org. Chem., 2013, 78, 3616;
(u) J. Kuethe, Y.-L. Zhong, N. Yasuda, G. Beutner, K. Linn, M. Kim,
B. Marcune, S. D. Dreher, G. Humphrey and T. Pei, Org. Lett., 2013,
15, 4174.
77. H. Plenio, Angew. Chem. Int. Ed., 2008, 47, 6954.
78. (a) M. M. Heravi and S. Sadjadi, Tetrahedron, 2009, 65, 7761;
(b) R. Chinchilla and C. N
´
jera, Chem. Rev., 2007, 107, 874;
(c) R. Chinchilla and C. N´jera, Chem. Soc. Rev., 2011, 40, 5084.
79. R. D. Stephens and C. E. Castro, J. Org. Chem., 1963, 28, 3313.
80. (a) A. O. King, E. G. Corley, R. K. Anderson, R. D. Larsen,
T. R. Verhoeven, P. J. Reider, Y. B. Xiang, M. Belley, Y. Leblanc,
M. Labelle, P. Prasit and R. J. Zamboni, J. Org. Chem., 1993, 58, 3731;
(b) D. R. Sidler, J. W. Sager, J. J. Bergan, K. M. Wells, M. Bhupathy and
R. P. Volante, Tetrahedron: Asymmetry, 1997, 8, 161; (c) G. Bold,
A. F¨ssler, H.-G. Capraro, R. Cozens, T. Klimkait, J. Lazdins, J. Mestan,
B. Poncioni, J. R¨sel, D. Stover, M. Tintelnot-Blomley, F. Acemoglu,
W. Beck, E. Boss, M. Eschbach, T. H¨rlimann, E. Masso, S. Roussel,
K. Ucci-Stoll, D. Wyss and M. Lang, J. Med. Chem., 1998, 41, 3387;
(d) D. C. Waite and C. P. Mason, Org. Process Res. Dev., 1998, 2, 116;
(e) Z. J. Song, M. Zhao, R. Desmond, P. Devine, D. M. Tscaen, R. Tillyer,
L. Frey, R. Heid, F. Xu, B. Foster, J. Li, R. Reamer, R. Volante, E. J.
J. Grabowski, U. H. Dolling and P. Reider, J. Org. Chem., 1999, 64, 9658;
(f)
J. Singh, O. K. Kim, T. P. Kissick, K.
J. Natalie, B. Zhang,
Search WWH ::
Custom Search