Chemistry Reference
In-Depth Information
S. Schuyler, Org. Process Res. Dev., 2011, 15, 148; (au) H. Malmgren,
H. Cotton, B. Frøstup, D. S. Jones, M.-L. Loke, D. Peters, S. Schultz,
E. S
¨
lver, T. Thomsen and J. Wennerberg, Org. Process Res. Dev., 2011,
15, 408; (av) Q. Huang, P. F. Richardson, N. W. Sach, J. Zhu, K. K.-C. Liu
and G. L. Smith, Org. Process Res. Dev., 2011, 15, 556; (aw) S. D. Walker,
C. J. Borths, E. DiVirgilio, L. Huang, P. Liu, H. Morrison, K. Sugi,
M. Tanaka, J. C. S. Woo and M. M. Faul, Org. Process Res. Dev., 2011,
15, 570; (ax) D. J. Wallace, C. A. Baxter, K. J. M. Brands, N. Bremeyer,
S. E. Brewer, R. Desmond, K. M. Emerson, J. Foley, P. Fernandez,
W. Hu, S. P. Keen, P. Mullens, D. Muzzio, P. Sajonz, L. Tan,
R. D. Wilson, G. Zhou and G. Zhou, Org. Process Res. Dev., 2011, 15, 831;
(ay) P. D. de Koning, D. McAndrew, R. Moore, I. B. Moses, D. C. Boyles,
K. Kissick, C. L. Stanchina, T. Cuthbertson, A. Kamatani, L. Rahman,
R. Rodriguez, A. Urbina, A. Sandoval and P. R. Rose, Org. Process Res.
Dev., 2011, 15, 1018; (az) M. Berwe, W. J¨ntgen, J. Kr¨ger, Y. Cancho-
Grande, T. Lampe, M. Michels, H. Paulsen, S. Raddatz and S. Weigand,
Org. Process Res. Dev., 2011, 15, 1348; (ba) C. Boos, D. M. Bowles, C. Cai,
A. Casimiro-Garcia, X. Chen, C. A. Hulford, S. M. Jennings, E. J. Kiser,
D. W. Piotrowski, M. Sammons and R. A. Wade, Tetrahedron Lett., 2011,
52, 7025; (bb) M. A. Graham, S. A. Raw, D. M. Andrews, C. J. Good,
Z. S. Matusiak, M. Maybury, E. S. E Stokes and A. T. Turner, Org. Process
Res. Dev., 2012, 16, 1283; (bc) A. T. Gillmore, M. Badland, C. L. Crook,
N. M. Castro, D. J. Critcher, S. J. Fussell, K. J. Jones, M. C. Jones,
E. Kougoulos, J. S. Mathew, L. McMillan, J. E. Pearce, F. L. Rawlinson,
A. E. Sherlock and R. Walton, Org. Process Res. Dev., 2012, 16, 1897;
(bd) S. R. Breining, J. F. Genus, J. P. Mitchener, T. J. Cuthbertson,
R. Heemstra, M. S. Melvin, G. M. Dull and D. Yohannes, Org. Process
Res. Dev., 2013, 17, 413; (be) C. Fiorelli, R. Scarpelli, D. Piomelli and
T. Bandiera, Org. Process Res. Dev., 2013, 17, 359; (bf) F. Hicks, Y. Hou,
M. Langston, A. McCarron, E. O'Brien, T. Ito, C. Ma, C. Matthews,
C. O'Bryan, D. Provencal, Y. Zhao, J. Huang, Q. Yang, L. Heyang,
M. Johnson, Y. Sitang and L. Yuqiang, Org. Process Res. Dev., 2013,
17, 829; (bg) Y. Wang, K. Przyuski, R. C. Roemmele, R. L. Hudkins and
R. P. Bakale, Org. Process Res. Dev., 2013, 17, 846.
54. (a) N. A. Owston and G. C. Fu, J. Am. Chem. Soc., 2010, 132, 11908;
(b) P. M. Lundin and G. C. Fu, J. Am. Chem. Soc., 2010, 132, 11027;
(c) B. Saito and G. C. Fu, J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 6694;
(d) V. Gracias and R. Iyengar, Chemtracts, 2005, 18, 339; (e) D. Zim and
A. L. Monteiro, Tetrahedron Lett., 2002, 43, 4009; (f) B. H. Lipshutz, Adv.
Synth. Catal., 2001, 343, 313; (g) D. Zim, V. R. Lando, J. Dupont and
A. L. Monteiro, Org. Lett., 2001, 3, 3049; (h) B. H. Lipshutz, J. A. Sclafani
and P. A. Blomgren, Tetrahedron, 2000, 56, 2139; (i) S. Saito, S. Oh-tani
and N. Miyaura, J. Org. Chem., 1997, 62, 8024.
55. (a) V. Polshettiwar, A. Decottignies, C. Len and A. Fihri, ChemSusChem,
2010, 3, 502; (b) R. Franzen and Y. Xu, Can. J. Chem., 2005, 83, 266;
(c) L. Bai and J.-X. Wang, Curr. Org. Chem., 2005, 9, 535.
Search WWH ::
Custom Search