Preparation and Characterization of Model Catalysts for the HCl Oxidation Reaction - Atomically-Precise Methods for Synthesis of Solid Catalysts - page 220

51. I. Yunogami and K. Nojiri, J. Vac. Sci. Technol., B, 2000, 18, 1911.
52. J. H. Kim, J. H. Lee, H. Kato, N. Horimoto, M. Kawai and Y. S. Lee,
J. Korean Phys. Soc., 2003, 42, 408.
53. Y. Abe, M. Kawamura and K. Sasaki, Jpn. J. Appl. Phys., 2002, 41,
6857.
54. S. H. Oh, C. G. Park and C. Park, Thin Solid Films, 2000, 359, 118.
55. G. Battaglin, V. Rigato, S. Zndolin, A. Benedetti, S. Ferro, L. Nanni and
A. De Battisti, Chem. Mater., 2004, 16, 946.
56. E. Kolawa, F. C. T. So, W. Flick, X.-A. Zhao, E. T.-S. Pan and
M.-A. Nicolet, Thin Solid Films, 1989, 173, 217.
57. S. Y. Mar, C. S. Chen, Y. S. Huang and K. K. Tiong, Appl. Surf. Sci., 1995,
90, 497.
58. M. L. Green, M. E. Gross, L. E. Papa, K. J. Schones and D. Brasen,
J. Electrochem. Soc., 1985, 132, 2677.
59. J. Si and S. B. Desu, J. Mater. Res., 1993, 8, 2644.
60. T. Takagi, I. Oizuki, I. Kobuyashi and M. Okada, Jpn. J. Appl. Phys., 1995,
34, 4104.
61. P. C. Liao, S. Y. Mar, W. S. Ho, Y. S. Huang and K. K. Tiong, Thin Solid
Films, 1996, 287, 74.
62. G.-R. Bai, A. Wang, C. M. Foster and J. Vetrone, Thin Solid Films, 1997,
310, 75.
63. J. J. Kim, D. H. Jung, M. S. Kim, S. H. Kim and D. Y. Yoon, Thin Solid
Films, 2002, 409, 28.
64. Z. Yuan, R. J. Puddlephatt and M. Sayer, Chem. Mater, 1993, 5, 908.
65. J. H. Han, S. W. Lee, G.-J. Choi, S. Y. Lee, C. S. Hwang, C. Dussarat and
J. Gatineau, Chem. Mater., 2009, 21, 207.
66. J. H. Han, S. W. Lee, S. K. Kim, S. Han, C. S. Hwang, C. Dussarat and
J. Gatineau, Chem. Mater., 2010, 22, 5700.
67. A. Kleinmann-Shwarsctein, A. B. Laursen, F. Cavalcy, W. Tang, S. Dahl
and I. Chorckendorff, Chem. Commun., 2012, 48, 967.
68. S. Bhaskar, S. B. Majumder, P. S. Dobal, R. S. Katiyar, A. L. Morales Cruz
and E. R. Fachini, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 2000, 606, 69.
69. Q. X. Jia, Z. Q. Shi, K. L. Jiao, W. A. Anderson and F. M. Colins, Thin
Solid Films, 1991, 196, 29.
70. H. Over, Y. B. He, A. Farkas, G. Mellau, C. Korte, M. Knapp,
M. Chandhok and M. Fang, J. Vac. Sci. Technol., B, 2007, 25, 1123.
71. X. Fang, M. Tachiki and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., 1997, 36,
L511.
72. M. Hiratani, Y. Matsui, K. Imagawa and S. Kimura, Thin Solid Films,
2000, 366, 102.
73. S. Gsell, M. Fischer, M. Schreck and B. Stritzker, J. Cryst. Growth, 2009,
311, 3731.
74. T. Aaltonen, P. Alen, M. Ritala and M. Lesel¨, Chem. Vap. Deposition,
2003, 9, 45.
75. J.-H. Kim, D.-S. Kil, A.-J. Yeom, J.-S. Roh, N.-J. Kwak and J.-W. Kim, Appl.
Phys. Lett., 2007, 91, 052908.

d n 9 r 4 n g | 8

.